[发明专利]用于旋转压板式ALD腔室的等离子体源

摘要

提供了基板处理腔室以及用于处理多个基板的方法，并且所述基板处理腔室大体包括电感耦合的饼形等离子体源，所述电感耦合的饼形等离子体源定位成使得在压板上旋转的基板将穿过与所述等离子体源相邻的等离子体区域。

主权项

1.一种处理腔室，所述处理腔室包括：至少一个电感耦合的饼形等离子体源，所述至少一个电感耦合的饼形等离子体源沿弧形路径被定位在所述处理腔室中，以便在与所述等离子体源相邻的等离子体区域中生成电感耦合等离子体，所述饼形等离子体源在内周边缘处具有狭窄的宽度，并在外周边缘处具有较大的宽度，所述饼形等离子体源包括在所述电感耦合等离子体源内的多个导电棒，所述多个导电棒与所述饼形等离子体源的径向壁成角度地延伸，所述电感耦合等离子体在狭窄的内周边缘与较宽的外周边缘之间具有基本上均匀的等离子体密度；以及基板支撑装置，所述基板支撑装置在所述处理腔室内，所述基板支撑装置可绕所述处理腔室的中心轴旋转，以使至少一个基板沿与所述至少一个饼形等离子体源相邻的所述弧形路径移动，其中，相比在所述外周边缘处，朝向所述饼形等离子体源的所述内周边缘，导电棒的密集度更大。