[发明专利]放置台及等离子体处理装置

摘要

本发明是一种放置台及等离子体处理装置，在放置通过还原性自由基来进行处理的被处理基板的放置台中，所述放置台包括：在俯视时被所述被处理基板所覆盖的放置面；及邻接于所述放置面的非放置面，所述非放置面的至少一部分的表面被不与还原性自由基发生还原反应的材料所覆盖。

主权项

一种等离子体处理装置，其特征在于，具备：处理容器，能够维持低于大气压的气氛；放置台，设置在所述处理容器内，用于放置由还原性自由基进行处理的被处理基板；等离子体发生部，具有等离子体发生区域和气体供给部，所述气体供给部向所述等离子体发生区域导入还原性气体；及开口部，设置在比所述放置台靠上方，将气体供给到所述处理容器内，所述气体包含由所述等离子体发生部产生的还原性自由基，所述放置台具备：在俯视时被所述被处理基板所覆盖的放置面；邻接于所述放置面、未被所述被处理基板覆盖并与含有还原性自由基的气体碰撞的非放置面；及放置部，所述放置部在所述处理中，以从所述放置面突出而在所述被处理基板的背面与所述放置面之间形成间隔的方式保持所述被处理基板，在所述被处理基板被放置在所述放置部时，所述非放置面位于比所述被处理基板的处理面靠下方，所述放置面及所述非放置面的表面由与还原性自由基不发生还原反应且抑制还原性自由基失去活性的材料所覆盖。