[发明专利]磁盘用玻璃基板的制造方法、磁盘用玻璃基板和磁盘的制造方法有效
| 申请号： | 201480017936.3 | 申请日： | 2014-03-31 |
| 公开（公告）号： | CN105074823B | 公开（公告）日： | 2018-10-23 |
| 发明（设计）人： | 越阪部基延;德光秀造;山城祐治;竹内亮太郎 | 申请（专利权）人： | HOYA株式会社;HOYA玻璃磁盘越南第二公司 |
| 主分类号： | G11B5/84 | 分类号： | G11B5/84;G11B5/73 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 丁香兰;庞东成 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种磁盘用玻璃基板的制造方法，该方法即便在使用HDI传感器的情况下，也能够降低可引起磁头碰撞的异物缺陷。本发明包括下述研磨处理：使包含胶态二氧化硅的研磨液和研磨垫与玻璃基板的表面接触，对玻璃基板表面进行镜面研磨。作为研磨液，选择不含有含Al、Si和O的各元素的异物的研磨液，在将玻璃基板作成磁盘并用磁头进行记录再生时，上述各元素可抑制记录再生；利用该研磨液进行研磨处理。 | ||
| 搜索关键词： | 磁盘 玻璃 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种磁盘用玻璃基板的制造方法，该磁盘用玻璃基板的制造方法适用于下述DFH磁头对应的磁盘，该DFH磁头对应的磁盘搭载有HDI传感器，能够基于来自所述HDI传感器的信号对记录再生元件的至少一个元件的突出量进行控制，该磁盘用玻璃基板的制造方法包括下述研磨处理：向玻璃基板的主表面与研磨垫之间供给包含胶态二氧化硅的研磨液，使玻璃基板与研磨垫接触，对玻璃基板的主表面进行镜面研磨，其特征在于，为了防止含有铝Al、硅Si和氧O的各元素的异物的产生，至少在酸性环境下对所述研磨液进行调整，所述异物是异物在X‑Y平面中位于X、Y轴方向的大小分别在30nm～200nm的范围内、并且异物的厚度的大小在1nm～20nm的范围内的平坦层状异物。
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