[发明专利]用于谱滤波的基于泰伯效应的近场衍射有效
| 申请号： | 201480019691.8 | 申请日： | 2014-11-12 |
| 公开（公告）号： | CN105103238B | 公开（公告）日： | 2017-03-08 |
| 发明（设计）人： | E·勒斯尔;T·克勒 | 申请（专利权）人： | 皇家飞利浦有限公司 |
| 主分类号： | G21K1/06 | 分类号： | G21K1/06 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司72002 | 代理人： | 李光颖,王英 |
| 地址： | 荷兰艾*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于对X射线射束(B)进行谱滤波的光栅布置和方法，所述光栅布置包括色散元件(10)，其包括棱镜，所述棱镜被配置为使X射线射束(B)衍射成包括第一方向(D1)的第一射束分量(BC1)和包括第二方向(D2)的第二射束分量(BC2)，所述第二方向相对于所述第一方向倾斜；第一光栅(20)，其被配置为生成第一射束分量(BC1)的第一衍射图样(DP1)和第二射束分量(BC2)的第二衍射图样(DP2)，所述第二衍射图样(DP2)相对于所述第一衍射图样(DP1)移位；以及第二光栅(30)，其包括至少一个开口(31)，所述至少一个开口沿从第一衍射图样(DP1)或第二衍射图样(DP2)的强度的最大值(MA)到最小值(MI)的线(d)对准。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 滤波 基于 效应 近场 衍射 | ||
【主权项】：
一种用于对X射线射束(B)进行谱滤波的光栅布置(100)，包括：色散元件(10)，其包括棱镜，所述棱镜被配置为使所述X射线射束(B)衍射成包括第一方向(D1)的第一射束分量(BC1)和包括第二方向(D2)的第二射束分量(BC2)，所述第二方向相对于所述第一方向倾斜；第一光栅(20)，其被配置为生成所述第一射束分量(BC1)的第一衍射图样(DP1)和所述第二射束分量(BC2)的第二衍射图样(DP2)，所述第二衍射图样(DP2)相对于所述第一衍射图样(DP1)移位；以及第二光栅(30)，其包括至少一个开口(31)，所述至少一个开口沿从所述第一衍射图样(DP1)或所述第二衍射图样(DP2)的强度的最大值(MA)到最小值(MI)的线(d)对准。
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