[发明专利]底部填充用粘接膜、背面研削用胶带一体型底部填充用粘接膜、切割胶带一体型底部填充用粘接膜以及半导体装置在审
申请号: | 201480020067.X | 申请日: | 2014-03-27 |
公开(公告)号: | CN105103280A | 公开(公告)日: | 2015-11-25 |
发明(设计)人: | 盛田浩介;高本尚英;花园博行;福井章洋 | 申请(专利权)人: | 日东电工株式会社 |
主分类号: | H01L21/60 | 分类号: | H01L21/60;B32B27/38;B32B27/42;C09J7/00;C09J121/00;C09J161/04;C09J163/00;H01L21/301;H01L21/52 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 葛凡 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 提供一种不会损害挠性、并且可以提高玻璃化转变温度的底部填充用粘接膜。本发明涉及一种底部填充用粘接膜,其含有树脂成分,所述树脂成分包含数均分子量为600以下的环氧树脂、数均分子量超过500的酚醛树脂以及弹性体,所述树脂成分中的所述环氧树脂的含量为5~50重量%,所述酚醛树脂的含量为5~50重量%。 | ||
搜索关键词: | 底部 填充 用粘接膜 背面 研削用 胶带 体型 切割 以及 半导体 装置 | ||
【主权项】:
一种底部填充用粘接膜,其含有树脂成分,所述树脂成分包含数均分子量为600以下的环氧树脂、数均分子量超过500的酚醛树脂以及弹性体,所述树脂成分中的所述环氧树脂的含量为5~50重量%,所述酚醛树脂的含量为5~50重量%。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日东电工株式会社,未经日东电工株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201480020067.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:半导体装置的制造方法
- 下一篇:带电粒子束装置以及过滤部件
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造