[发明专利]紫外发光器件有效

专利信息
申请号: 201480020854.4 申请日: 2014-03-07
公开(公告)号: CN105103309B 公开(公告)日: 2018-09-07
发明(设计)人: 崔孝植;黄晶焕;韩昌锡 申请(专利权)人: 首尔伟傲世有限公司
主分类号: H01L33/04 分类号: H01L33/04;H01L33/32
代理公司: 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 代理人: 陶敏;臧建明
地址: 韩国京畿道安山市檀*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要: 发明公开了一种紫外发光器件。该发光器件包括:n型接触层,其包括GaN层;p型接触层,其包括AlGaN或AlInGaN层;以及多量子阱结构的有源区,其位于n型接触层与p型接触层之间。另外,多量子阱结构的有源区包括厚度小于2nm的GaN层或InGaN层,以发射峰值波长为340nm至360nm的紫外线。本发明的紫外发光器件能够发射波长在340nm至360nm范围内的紫外光。
搜索关键词: 紫外 发光 器件
【主权项】:
1.一种发光器件,包括:n型接触层,包括GaN层;p型接触层,包括AlGaN层或AlInGaN层;具有多量子阱结构的有源区,其布置在所述n型接触层和所述p型接触层之间,其中具有所述多量子阱结构的所述有源区包括由GaN或InGaN形成的阱层,所述阱层具有小于2nm的厚度并且发射峰值波长在340nm至360nm范围内的紫外光;超晶格层,布置在所述n型接触层与所述有源区之间,所述超晶格层具有InGaN/InGaN重复层叠的结构;电子注入层,布置在所述超晶格层与所述有源区之间,其中所述电子注入层的n型杂质掺杂浓度高于所述超晶格层的n型杂质掺杂浓度;未掺杂GaN层,布置在所述n型接触层与所述超晶格层之间;以及低浓度GaN层,布置在所述未掺杂GaN层与所述超晶格层之间,其中所述低浓度GaN层具有在低于所述n型接触层的n型杂质掺杂浓度下进行掺杂的n型杂质掺杂浓度,且具有相对于未掺杂GaN层的厚度更薄的厚度。
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