[发明专利]抗蚀剂下层膜形成用组合物有效
| 申请号： | 201480021117.6 | 申请日： | 2014-04-01 |
| 公开（公告）号： | CN105143979B | 公开（公告）日： | 2019-07-05 |
| 发明（设计）人： | 桥本圭祐;西卷裕和;新城彻也;染谷安信;柄泽凉;坂本力丸 | 申请（专利权）人： | 日产化学工业株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/11 | 分类号： | G03F7/11;C08G61/02;C08L65/00;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人： | 黄媛;段承恩 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： |
本发明的课题是提供新的抗蚀剂下层膜形成用组合物。解决手段是一种包含聚合物和溶剂的抗蚀剂下层膜形成用组合物，所述聚合物具有由下述式(1)表示的结构单元， |
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| 搜索关键词： | 抗蚀剂 下层 形成 组合 | ||
【主权项】：
1.一种抗蚀剂下层膜形成用组合物，包含聚合物和溶剂，所述聚合物具有由下述式(1)表示的结构单元，![]()
式(1)中，X1表示具有至少1个可以被卤代基、硝基、氨基或羟基取代的芳香环的碳原子数6～20的二价有机基，X2表示具有至少1个可以被卤代基、硝基、氨基或羟基取代的芳香环的碳原子数6～20的有机基、或甲氧基。
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