[发明专利]形成掩模的可成像材料和使用它制备浮凸图像的方法有效

专利信息
申请号: 201480021597.6 申请日: 2014-04-08
公开(公告)号: CN105143980B 公开(公告)日: 2019-11-05
发明(设计)人: K.M.基尼 申请(专利权)人: 米瑞控公司
主分类号: G03F7/11 分类号: G03F7/11;G03F7/20;G03F7/24;G03F7/38;B41C1/00;B41M5/00
代理公司: 隆天知识产权代理有限公司 72003 代理人: 吴小瑛
地址: 美国特*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 可成像材料可用于形成提供浮凸图像的掩模图像。该可成像材料具有简化的结构并且基本上由以下按序构成:透明聚合物载体片和包含第一红外辐射吸收化合物的阻隔层。在所述透明聚合物载体片或所述阻隔层内提供第一紫外辐射吸收化合物。将非卤化银热敏可成像层置于所述阻隔层上并且所述可成像层包含第二红外辐射吸收化合物和第二紫外辐射吸收化合物。通过以下步骤来形成浮凸图像,使所述可成像材料成像以形成成像的掩模材料,通过成像的掩模材料用固化辐射曝光凸版形成材料以形成曝光区域和非曝光区域,并且通过去除它的非曝光区域使成像的凸版形成材料显影以形成浮凸图像。
搜索关键词: 形成 成像 材料 使用 制备 图像 方法
【主权项】:
1.可成像材料,其按序包含:(a)透明聚合物载体片,(b)直接置于透明聚合物载体片上的阻隔层,所述阻隔层包含第一红外辐射吸收化合物,其中透明聚合物载体片和阻隔层中的一个或两者进一步包含第一紫外辐射吸收化合物,和(c)直接置于所述阻隔层上的非卤化银热敏可成像层,所述非卤化银热敏可成像层包含第二红外辐射吸收化合物和第二紫外辐射吸收化合物,两者均分散于聚合物粘合剂内,其中第一和第二紫外辐射吸收化合物为相同或不同的UV‑吸收染料,并且第一紫外辐射吸收化合物在所述透明聚合物载体片和所述阻隔层之一或该两者中的总量少于第二紫外辐射吸收化合物的量。
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