[发明专利]对准传感器、光刻设备和对准方法有效

专利信息
申请号: 201480025903.3 申请日: 2014-04-25
公开(公告)号: CN105190446B 公开(公告)日: 2017-02-08
发明(设计)人: A·J·登博夫;S·马蒂杰森;P·蒂内曼斯 申请(专利权)人: ASML荷兰有限公司
主分类号: G03F9/00 分类号: G03F9/00
代理公司: 北京市金杜律师事务所11256 代理人: 王茂华,张宁
地址: 荷兰维*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 公开了一种对准传感器及相关方法,包括诸如白光源之类的照明源,具有可操作成在取决于波长的角度下的衍射高阶辐射的照明光栅;以及用于将衍射的辐射从至少两个相反方向递送至对准光栅上的照明光学器件。针对入射在对准光栅上的每个分量波长、以及针对每个方向,从两个相对方向的一个入射的辐射的第零阶衍射重叠了从另一方向入射的辐射的高阶衍射。这采用重叠的第零阶衍射光学放大了高阶衍射。
搜索关键词: 对准 传感器 光刻 设备 方法
【主权项】:
一种对准传感器,包括:至少一个照明源,包括可操作成以取决于波长的角度衍射高阶辐射的衍射照明结构;以及照明光学器件,可操作成从相对方位角方向的至少一个配对将来自所述至少一个照明源的所述衍射的照明辐射递送至衍射对准结构上的点上,其中所述对准传感器可操作成使得在由所述衍射对准结构将所述衍射照明辐射的衍射之后,并且独立于所述衍射照明辐射中所包括的波长:从相对方位角方向的每个配对中的第一个入射并且由所述衍射对准结构衍射的衍射照明辐射的第零阶衍射与从相对方位角方向的每个配对中的第二个入射并且由所述衍射对准结构衍射的衍射照明辐射的高阶衍射重叠;以及从相对方位角方向的每个配对中的第二个入射并且由所述衍射对准结构衍射的衍射照明辐射的第零阶衍射与从相对方位角方向的每个配对中的第一个入射并且由所述衍射对准结构衍射的衍射照明的辐射的高阶衍射重叠;由此采用重叠的第零阶光学放大所述高阶衍射。
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