[发明专利]曝光装置和照明单元有效

专利信息
申请号: 201480027536.0 申请日: 2014-06-16
公开(公告)号: CN105209976B 公开(公告)日: 2018-06-29
发明(设计)人: 梶山康一;水村通伸;畑中诚 申请(专利权)人: 株式会社V技术
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;H01L21/027
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 李辉;黄纶伟
地址: 日本神*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明涉及通过利用微透镜阵列将掩模上的图案成像在基板上而曝光基板的曝光装置等,并使射出曝光光的照明单元小型化。微透镜阵列(30)具有包含朝向与移动方向(A)相交的方向的排列且以二维方式配置的多个微透镜(31),照明单元具有:排列有多个激光二极管的LD阵列条;以及照明光学系统,其将从构成该LD阵列条的多个激光二极管射出的多个发出光转换成缝形状的曝光光束,并利用该曝光光束的曝光光(170)对排成一列的多个微透镜上进行照明,关于与移动方向相交的方向,该曝光光束以跨越在该方向上排列的多个微透镜的方式扩展,并且关于移动方向,该曝光光束被限制为不会波及排列于在该移动方向上相邻的列上的微透镜的宽度。
搜索关键词: 曝光光束 移动方向 微透镜 照明单元 激光二极管 微透镜阵列 曝光装置 曝光光 射出 相交 照明光学系统 二维方式 曝光基板 图案成像 光转换 配置的 基板 掩模
【主权项】:
1.一种曝光装置,其具有:照明单元,其射出曝光光;掩模,其形成有曝光图案,并接受来自所述照明单元的曝光光的照射;微透镜阵列,其将所述掩模作为被摄体;以及移动机构,其使所述照明单元和所述微透镜阵列相对于所述掩模和基板这双方,向规定的移动方向相对移动,其中,通过该微透镜阵列将该掩模上的曝光图案成像在所述基板上,该曝光装置借助由所述移动机构实现的向所述移动方向的相对移动,在所述基板上的具有超过所述微透镜阵列静止时的曝光区域的广度的区域内,将该基板曝光成与所述掩模上的曝光图案对应的图案,该曝光装置的特征在于,所述微透镜阵列具有以二维方式配置的多个微透镜,该多个微透镜包含朝向与所述移动方向交叉的交叉方向的排列,所述照明单元具有:发光元件阵列,其排列有多个发光元件;以及照明光学系统,其将从构成所述发光元件阵列的多个发光元件射出的多个发出光转换成曝光光束,并将该曝光光束引导到在该交叉方向上排列的多个微透镜上,关于所述交叉方向,所述曝光光束跨越在该交叉方向上排列的多个微透镜而扩展,并且关于所述移动方向,所述曝光光束被限制为不会波及排列于在该移动方向上相邻的列上的微透镜的宽度,其中,所述发光元件是激光二极管,所述发光元件阵列是激光二极管阵列条,所述照明单元具有多条所述发光元件阵列,所述照明光学系统是如下的光学系统:针对每一条所述发光元件阵列,将从该一条发光元件阵列射出的多个发出光转换成一条所述曝光光束,并将与多条该发光元件阵列对应的多条曝光光束分别引导到在所述移动方向上彼此不同的多个列,所述多个列的任意一个都是由在所述交叉方向上排列的多个微透镜构成的列。
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