[发明专利]光倍增管、图像传感器及使用PMT或图像传感器的检验系统有效
申请号: | 201480028203.X | 申请日: | 2014-04-01 |
公开(公告)号: | CN105210189B | 公开(公告)日: | 2018-12-07 |
发明(设计)人: | 勇-霍·亚历克斯·庄;戴维·L·布朗;约翰·费尔登 | 申请(专利权)人: | 科磊股份有限公司 |
主分类号: | H01L27/146 | 分类号: | H01L27/146 |
代理公司: | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人: | 张世俊 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 本发明揭示一种光倍增管,其包含半导体光电阴极及光电二极管。值得注意地,所述光电二极管包含:p掺杂型半导体层;n掺杂型半导体层,其形成于所述p掺杂型半导体层的第一表面上,以形成二极管;及纯硼层,其形成于所述p掺杂型半导体层的第二表面上。在所述半导体光电阴极与所述光电二极管之间的间隙可为小于约1毫米或小于约500微米。所述半导体光电阴极可包含氮化镓,例如一或多个p掺杂型氮化镓层。在其它实施例中,所述半导体光电阴极可包含硅。此半导体光电阴极可进一步包含在至少一个表面上的纯硼涂层。 | ||
搜索关键词: | 倍增 图像传感器 使用 pmt 检验 系统 | ||
【主权项】:
1.一种光倍增管,其包括:半导体光电阴极;及光电二极管,其包含:p掺杂型半导体层;n掺杂型半导体层,其形成于所述p掺杂型半导体层的第一表面上以形成二极管;及纯硼层,其形成于所述p掺杂型半导体层的第二表面上,其中所述半导体光电阴极包括硅,且其中所述半导体光电阴极进一步包括在至少一个表面上的纯硼涂层。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
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