[发明专利]氧化铋类激光标记用添加剂有效
申请号: | 201480029134.4 | 申请日: | 2014-04-17 |
公开(公告)号: | CN105246638B | 公开(公告)日: | 2017-01-25 |
发明(设计)人: | 的田达郎;铃木滋;新地岳人;石河明 | 申请(专利权)人: | 东罐材料科技株式会社 |
主分类号: | B23K26/18 | 分类号: | B23K26/18;C01G29/00;C09D11/037;C09C1/00 |
代理公司: | 北京路浩知识产权代理有限公司11002 | 代理人: | 谢顺星,张晶 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明为一种氧化铋类激光标记用添加剂,该氧化铋类激光标记用添加剂由通式Bi2O(3‑x)(其中,x为0.01以上且0.3以下,x表示氧缺陷量,依照x=3‑O1s/Bi4f×2,由通过X射线光电子能谱法得到的归属于与铋结合的氧的1s电子的峰面积相对于由归属于铋的4f电子的峰面积之比(O1s/Bi4f)算得)所示氧缺陷型氧化铋形成,与所使用的树脂的种类和形状无关,不会导致树脂组合物的不良着色,且可以进行黑度和对比度均优异的标记。 | ||
搜索关键词: | 氧化 激光 标记 添加剂 | ||
【主权项】:
一种激光标记用添加剂,其特征在于由通式Bi2O(3‑x)所示氧缺陷型氧化铋形成,其中,x为0.01以上且0.3以下,在上述通式中,x表示氧缺陷量,依照下述式(1)由通过X射线光电子能谱法得到的归属于与铋结合的氧的1s电子的峰面积相对于归属于铋的4f电子的峰面积之比O1s/Bi4f算得,x=3‑O1s/Bi4f×2……(1)。
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