[发明专利]蚀刻组合物有效
| 申请号： | 201480030747.X | 申请日： | 2014-05-22 |
| 公开（公告）号： | CN105247663B | 公开（公告）日： | 2018-03-23 |
| 发明（设计）人： | 儿玉俊辅;塚原智明;神代恭 | 申请（专利权）人： | 日立化成株式会社 |
| 主分类号： | H01L21/308 | 分类号： | H01L21/308;C09K13/04;C09K13/08;C09K13/10;H01L31/18 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司11021 | 代理人： | 葛凡 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种蚀刻组合物，其含有包含阴离子及阳离子的盐以及溶剂，所述阴离子具有氟原子与磷原子以单键键合而成的结构。 | ||
| 搜索关键词： | 蚀刻 组合 | ||
【主权项】：
一种蚀刻组合物，其含有包含阴离子及阳离子的盐、硼化合物以及溶剂，所述阴离子具有氟原子与磷原子以单键键合而成的结构，所述硼化合物是选自结构中包含硼及与所述硼键合的卤素的路易斯酸、所述路易斯酸的盐、以及产生所述路易斯酸的化合物中的至少1种，所述包含阴离子及阳离子的盐的含有率为整体的5质量％～90质量％。
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H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
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