[发明专利]氢氧化铟粉末的制造方法和氧化铟粉末的制造方法、以及溅射靶材有效
申请号: | 201480030765.8 | 申请日: | 2014-05-23 |
公开(公告)号: | CN105264119B | 公开(公告)日: | 2017-07-04 |
发明(设计)人: | 菅本宪明;木部龙夫;加茂哲郎;岩佐刚;川上哲史;高田功;水沼昌平 | 申请(专利权)人: | 住友金属矿山株式会社 |
主分类号: | C25B1/00 | 分类号: | C25B1/00;C01G15/00;C04B35/00;C23C14/34;C25B11/04 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙)11277 | 代理人: | 刘新宇,李茂家 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 制造粒径均匀、且粒度分布幅度窄的氢氧化铟粉末。通过阳极使用金属铟的电解制造氢氧化铟粉末的方法中,将电解液的电解质浓度设为0.1~2.0mol/L、pH设为2.5~5.0、液温设为20~60℃、电极电流密度设为4~20A/dm2,以包含析出的氢氧化铟粉末的电解浆料的浓度达到2~15%的范围内的方式进行电解。 | ||
搜索关键词: | 氢氧化 粉末 制造 方法 氧化 以及 溅射 | ||
【主权项】:
一种氢氧化铟粉末的制造方法,其为通过阳极使用金属铟的电解来制造氢氧化铟粉末的方法,其特征在于,电解液的浓度为0.5~2.0mol/L,pH为2.5~5.0,液温为20~50℃,电极电流密度为15~20A/dm2,以包含析出的所述氢氧化铟粉末的电解浆料的浓度达到2~15wt%的范围的方式进行电解。
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