[发明专利]包括双重制冷剂和液体工作流体的制冷系统

摘要

在一种实施方式中，本发明涉及离子液体和气体制冷剂在温度调节系统中(例如制冷系统)的制冷剂组合物中的使用。在本发明的一种实施方式中，提供一种包括制冷剂组合物和装置的制冷系统，其中，所述制冷剂组合物包括至少一种气体制冷剂和工作液体或流体。

主权项

一种用于制冷系统的制冷剂组合物，包含：a)水、醇和式1所示的化合物，或者它们的混合物：其中，A选自N、P或S；且i)当A是N时，R₁、R₂、R₃和R₄各自独立地与N以及相邻的R₁、R₂、R₃或R₄基团形成双键，或者各自独立地选自由氢、(C_1‑C₂₀)烷基、芳基、(C₃‑C₁₀)杂环基、(C₃‑C₁₀)环烷基、(C₃‑C₁₀)杂环基(C₁‑C₈)烷基、芳基(C₁‑C₈)烷基、杂芳基和杂芳基(C₁‑C₈)烷基组成的组，其中的基团可以是未取代的或被一种或两种以下基团取代：卤素、硝基、三氟甲基、三氟甲氧基、甲氧基、羧基、‑NH₂、‑OH、‑SH、‑NHCH₃、‑N(CH₃)₂、氰基、‑SMe、‑SO₃H、‑P((C₁‑C₅)烷基)₂和‑P(O)(OEt)₂；或者R₁、R₂和R₃一起与N形成杂芳基，或者R₁和R₂一起与N形成杂环，其中的每种基团是未取代的或被选自卤素、硝基、三氟甲基、三氟甲氧基、甲氧基、羧基、‑NH₂、‑OH、‑SH、‑NHCH₃、‑N(CH₃)₂、‑SMe、氰基、(C₁‑C₃)烷基、芳基、(C₃‑C₆)环烷基、芳基(C₁‑C₃)烷基和杂芳基的基团取代；ii)当A是S时，R₁、R₂、R₃和R₄各自独立地选自由氢、(C₁‑C₂₀)烷基、芳基、(C₃‑C₁₀)杂环基、(C₃‑C₁₀)环烷基、(C₃‑C₁₀)杂环基(C₁‑C₈)烷基、芳基(C₁‑C₈)烷基、杂芳基和杂芳基(C₁‑C₈)烷基组成的组，其中的基团可以是未取代的或被一种或两种以下基团取代：卤素、硝基、三氟甲基、三氟甲氧基、甲氧基、羧基、‑NH₂、‑OH、‑SH、‑NHCH₃、‑N(CH₃)₂、氰基、‑SMe、‑SO₃H、‑P((C₁‑C₅)烷基)₂和‑P(O)(OEt)₂；且iii)当A是P时，R₁、R₂、R₃和R₄各自独立地选自由氢、(C₁‑C₂₀)烷基、芳基、(C₃‑C₁₀)杂环基、(C₃‑C₁₀)环烷基、(C₃‑C₁₀)杂环基(C₁‑C₈)烷基、芳基(C₁‑C₈)烷基、杂芳基和杂芳基(C₁‑C₈)烷基组成的组，其中的基团可以是未取代的或被一种或两种以下基团取代：卤素、硝基、三氟甲基、三氟甲氧基、甲氧基、羧基、‑NH₂、‑OH、‑SH、‑NHCH₃、‑N(CH₃)₂、氰基、‑SMe、‑SO₃H、‑P((C₁‑C₅)烷基)₂和‑P(O)(OEt)₂；以及b)至少一种在制冷循环期间能发生可逆化学反应的气体制冷剂。