[发明专利]结晶化高分子膜及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201480031325.4 申请日: 2014-07-17
公开(公告)号: CN105283491B 公开(公告)日: 2018-10-16
发明(设计)人: 西川茂雄;吉田光伸 申请(专利权)人: 三井化学株式会社
主分类号: C08J5/18 分类号: C08J5/18
代理公司: 北京市金杜律师事务所 11256 代理人: 杨宏军;焦成美
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 一种结晶化高分子膜,含有重均分子量为5万~100万、且在结晶化速度最快的温度下的半结晶时间在180秒~900秒的范围内的高分子(A),所述结晶化高分子膜的通过DSC法得到的结晶度为20%~80%,依照JIS‑K7105于25℃分别测定总雾度及内部雾度时,所述总雾度与所述内部雾度之差为0.8%以下。
搜索关键词: 结晶 高分子 及其 制造 方法
【主权项】:
1.一种结晶化高分子膜,其中,含有重均分子量为5万~100万、且在结晶化速度最快的温度下的半结晶时间在180秒~900秒的范围内的高分子(A),通过DSC法得到的结晶度为20%~80%,依照JIS‑K7105于25℃分别测定总雾度及内部雾度时,所述总雾度与所述内部雾度之差为0.8%以下,所述高分子(A)为具有含有下述式(1)表示的重复单元的主链的聚乳酸系高分子,[化学式1]所述结晶化高分子膜是通过使含有所述高分子(A)的膜的主面与具有显示出脱模性的表面的加热部件的所述表面接触从而对所述膜进行加热而得到的。
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