[发明专利]光学单元和光学分析设备在审

专利信息
申请号: 201480033414.2 申请日: 2014-05-22
公开(公告)号: CN105324659A 公开(公告)日: 2016-02-10
发明(设计)人: 上村一平 申请(专利权)人: 日本电气方案创新株式会社
主分类号: G01N21/49 分类号: G01N21/49;G01N21/17
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 代理人: 鲁山;孙志湧
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 光学单元(100)包括用光照射分析目标的光发射部(10)、接收被分析目标反射或漫射的光的多个光接收部(20)、安装有光发射部(10)和光接收部(20)的安装衬底(30)以及具有光学透明性的板状部件(40)。板状部件(40)被布置为以便覆盖安装在安装衬底(30)上的光发射部(10)和光接收部(20)。分别设定光发射部(10)、光接收部(20)和板状部件(40)的位置,使得在分析目标与板状部件(40)接触的情况下,从光发射部(10)出射的光在被分析目标反射或漫射后,入射在两个或更多个光接收部(20)上。
搜索关键词: 光学 单元 分析 设备
【主权项】:
一种光学单元,包括:光发射部,所述光发射部用光照射分析目标;多个光接收部,所述多个光接收部接收已经被所述分析目标反射或漫射的光;安装衬底,在所述安装衬底上安装有所述光发射部和所述多个光接收部;以及板状部件,所述板状部件具有光学透明性,其中,所述板状部件被布置为以便覆盖安装在所述安装衬底上的所述光发射部和所述多个光接收部,并且分别设定所述光发射部、所述光接收部和所述板状部件的位置,使得在所述分析目标与所述板状部件接触的情况下,从所述光发射部出射的光在被所述分析目标反射或漫射后,入射在两个或更多个所述光接收部上。
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