[发明专利]控制光学设备中的电吸收介质的组成有效
| 申请号： | 201480037639.5 | 申请日： | 2014-07-02 |
| 公开（公告）号： | CN105452943B | 公开（公告）日： | 2019-09-20 |
| 发明（设计）人： | J.方;钱伟;冯大增;M.阿斯哈里 | 申请（专利权）人： | 迈络思科技硅光股份有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/017 | 分类号： | G02F1/017;G02B6/12 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 佘鹏;肖日松 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 形成光学设备包括在设备前体的基底上的各种不同区域中生长电吸收介质。所述区域包括部件区域，并且所述区域被选择，从而使包括在所述部件区域中的所述电吸收介质获得特定的化学组成。在所述设备前体上形成光学部件，使得所述光学部件包括来自所述部件区域的所述电吸收介质的至少一部分。在所述部件的操作期间，光信号被导引通过来自所述部件区域的所述电吸收介质。 | ||
| 搜索关键词： | 控制 光学 设备 中的 吸收 介质 组成 | ||
【主权项】：
1.一种光学设备，包括：基底上的电吸收介质的多个不同的区域；所述区域包括部件区域，所述部件区域被包括在位于所述基底上的光学部件中，使得在所述光学部件的操作期间光信号被导引通过来自所述部件区域的电吸收介质；并且所述区域还包括虚设区域，所述虚设区域不是所述基底上的所述光学部件的功能部分并且也不是所述基底上的任何其他部件的功能部分。
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