[发明专利]水处理方法以及水处理系统有效
| 申请号： | 201480037826.3 | 申请日： | 2014-05-30 |
| 公开（公告）号： | CN105358490B | 公开（公告）日： | 2017-09-01 |
| 发明（设计）人： | 江田昌之;冲野进;吉山隆士;樱井秀明;鹈饲展行;铃木英夫;中小路裕;吉冈茂 | 申请（专利权）人： | 三菱重工业株式会社 |
| 主分类号： | C02F9/00 | 分类号： | C02F9/00;B01D9/02;B01D19/00;B01D61/08;B01D61/42;B01D61/58;C02F1/20;C02F1/42;C02F1/44;C02F1/469;C02F1/52;C02F5/00;C02F5/10;C02 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司11021 | 代理人： | 雒运朴 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供能够以较高的水回收率使包含盐类的水再生的水处理系统以及水处理方法。本发明的水处理系统包括第一脱盐部，其将包括Ca离子、SO4离子以及碳酸离子的被处理水分离为浓缩有Ca离子、SO4离子以及碳酸离子的浓缩水与处理水；析晶部，其设置在第一脱盐部的下游侧，且具有使石膏从浓缩水中析晶的第一析晶槽(21)与向第一析晶槽(21)供给石膏的晶种的晶种供给部(22)；第一pH计测部(543)，其对第一析晶槽(21)内的第一浓缩水的pH进行计测；以及控制部(24)，在由第一pH计测部(543)计测出的pH处于钙水垢防止剂的水垢防止功能降低的pH范围内的情况下，该控制部使石膏的晶种的供给量降低，在由第一pH计测部(543)计测出的pH比pH范围高的情况下，该控制部使石膏的晶种的供给量增大。 | ||
| 搜索关键词： | 水处理 方法 以及 系统 | ||
【主权项】：
一种水处理方法，其包括如下的工序：水垢防止剂供给工序，在该水垢防止剂供给工序中，向包含Ca离子、SO4离子以及碳酸离子的被处理水供给钙水垢防止剂，所述钙水垢防止剂防止包含钙的水垢析出；脱盐工序，该脱盐工序在所述水垢防止剂供给工序之后，将所述被处理水分离为浓缩水与处理水，所述浓缩水浓缩有所述Ca离子、所述SO4离子以及所述碳酸离子；析晶工序，在该析晶工序中，向所述浓缩水供给石膏的晶种，从而石膏从所述浓缩水中析晶；pH计测工序，在该pH计测工序中，对所述析晶工序中的所述浓缩水的pH进行计测；以及供给量控制工序，在该供给量控制工序中，在所述计测出的pH处于所述钙水垢防止剂的水垢防止功能降低的pH范围内的情况下，使所述石膏的晶种的供给量降低，在所述计测出的pH比所述pH范围高的情况下，使所述石膏的晶种的供给量增大。
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