[发明专利]水处理方法以及水处理系统在审
| 申请号： | 201480038013.6 | 申请日： | 2014-05-30 |
| 公开（公告）号： | CN105358492A | 公开（公告）日： | 2016-02-24 |
| 发明（设计）人： | 江田昌之;冲野进;吉山隆士;樱井秀明;鹈饲展行;铃木英夫;中小路裕;吉冈茂 | 申请（专利权）人： | 三菱重工业株式会社 |
| 主分类号： | C02F9/00 | 分类号： | C02F9/00;B01D9/02;B01D19/00;B01D61/08;B01D61/42;B01D61/58;C02F1/20;C02F1/42;C02F1/44;C02F1/469;C02F1/52;C02F5/00;C02F5/10;C02 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 雒运朴 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供能够以较高的水回收率使包含盐类的水再生的水处理系统以及水处理方法。在本发明的水处理系统(1)以及水处理方法中，向包含Ca离子、SO4离子、碳酸离子以及二氧化硅的被处理水供给水垢防止剂，将被处理水调整为二氧化硅能够溶解的pH。添加有钙水垢防止剂且调整了pH的被处理水在脱盐部(10)中被分离为浓缩有Ca离子、SO4离子、碳酸离子以及二氧化硅的浓缩水与处理水。在析晶部(20)中向浓缩水供给石膏的晶种，石膏析晶而被从浓缩水中去除。被处理水中的二氧化硅在析晶部(20)的被处理水下游侧被从浓缩水中去除。被处理水中的碳酸钙在脱盐部(10)的上游侧或者析晶部(20)的下游侧被从浓缩水中去除。 | ||
| 搜索关键词： | 水处理 方法 以及 系统 | ||
【主权项】：
一种水处理方法，其包括如下的工序：水垢防止剂供给工序，在该水垢防止剂供给工序中，向包含Ca离子、SO4离子、碳酸离子以及二氧化硅的被处理水供给钙水垢防止剂，所述钙水垢防止剂是防止包含钙的水垢析出的水垢防止剂；pH调整工序，在该pH调整工序中，将所述被处理水调整为所述二氧化硅能够溶解于所述被处理水中的pH；脱盐工序，该脱盐工序在所述水垢防止剂供给工序以及所述pH调整工序之后，将所述被处理水分离为浓缩水与处理水，所述浓缩水浓缩有所述Ca离子、所述SO4离子、所述碳酸离子以及所述二氧化硅；以及析晶工序，在该析晶工序中，向所述浓缩水供给石膏的晶种，从而石膏从所述浓缩水中析晶。
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