[发明专利]水处理方法以及水处理系统有效
申请号: | 201480038042.2 | 申请日: | 2014-05-30 |
公开(公告)号: | CN105377771B | 公开(公告)日: | 2017-08-18 |
发明(设计)人: | 江田昌之;冲野进;吉山隆士;樱井秀明;鹈饲展行;铃木英夫;中小路裕;吉冈茂 | 申请(专利权)人: | 三菱重工业株式会社 |
主分类号: | C02F9/00 | 分类号: | C02F9/00;B01D9/02;B01D19/00;B01D61/08;B01D61/42;B01D61/58;C02F1/20;C02F1/42;C02F1/44;C02F1/469;C02F1/52;C02F5/00;C02F5/10;C02 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司11021 | 代理人: | 雒运朴 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明提供能够以较高的水回收率使包含盐类的水再生的水处理系统以及水处理方法。本发明的水处理系统(100)具备第二脱盐部(210a、210b),其将包含Ca离子、SO4离子以及碳酸离子的被处理水分离为浓缩有Ca离子以及SO4离子的浓缩水与处理水;析晶部,其设置在第二脱盐部(210a、210b)的下游侧,具有使石膏从浓缩水中析晶的第二析晶槽(221a、221b)以及向第二析晶槽(221a、221b)供给石膏的晶种的晶种供给部;以及分离部,其在析晶部的下游侧将石膏从浓缩水中分离。 | ||
搜索关键词: | 水处理 方法 以及 系统 | ||
【主权项】:
一种水处理方法,其包括如下的工序:水垢防止剂供给工序,在该水垢防止剂供给工序中,向包含Ca离子、SO4离子以及碳酸离子的被处理水供给防止包含钙的水垢析出的钙水垢防止剂;脱盐工序,该脱盐工序在所述水垢防止剂供给工序之后,将所述被处理水分离为浓缩水与处理水,所述浓缩水浓缩有所述Ca离子、所述SO4离子以及所述碳酸离子;析晶工序,在该析晶工序中,向包含所述钙水垢防止剂的所述浓缩水供给石膏的晶种,从而石膏从包含所述钙水垢防止剂的所述浓缩水中析晶;以及分离工序,该分离工序在所述析晶工序之后,将所述石膏从所述浓缩水中分离。
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