[发明专利]反射型光掩模及其制造方法

摘要

反射型光掩模(10)具有基板(11)；形成在该基板(11)上的多层反射膜(12)，该多层反射膜反射平版印刷用的包含波长5nm以上15nm以下的光的曝光光；形成在该多层反射膜(12)上的吸收膜(14)，该吸收膜吸收曝光光且同时形成有电路图案(15)或者电路图案形成预定区域；在电路图案(15)或者电路图案形成预定区域的外周侧，通过除去基板(11)上的多层反射膜(12)和吸收膜(14)的一部分而形成的遮光区域(B)，该遮光区域遮蔽由多层反射膜(12)反射的曝光光的一部分；以及在该遮光区域(B)的露出的基板表面(11b)的一部分上以3000nm以下的间距形成的多个凸部(1)，该多个凸部抑制曝光光所含的入射到遮光区域(B)的带外光的反射，所述带外光具有140nm以上800nm以下的波长。

主权项

1.一种反射型光掩模，其具有：基板；形成在该基板上的多层反射膜，该多层反射膜反射平版印刷用的曝光光，该曝光光包含波长5nm以上15nm以下的光；形成在该多层反射膜上的吸收膜，该吸收膜吸收所述曝光光且同时形成有电路图案或者电路图案形成预定区域中的一者，其中在所述电路图案形成预定区域中形成电路图案；在所述电路图案或者所述电路图案形成预定区域中的一者的外周侧，通过除去所述基板上的所述多层反射膜和所述吸收膜的一部分而形成的遮光区域，该遮光区域遮蔽由所述多层反射膜反射的所述曝光光的一部分；以及在该遮光区域的露出的所述基板的表面的一部分上以3000nm以下的间距形成的多个凸部，该多个凸部抑制所述曝光光所含的入射到所述遮光区域的带外光的反射，所述带外光具有140nm以上800nm以下的波长。