[发明专利]狭槽式模具涂布方法、设备和基底

摘要

公开了一种狭槽式模具涂布方法和设备，以及具有图案化涂布层的基底。方法包括控制涂布流体从狭槽式模具涂布头到基底表面上的间歇性传输，以通过上述间歇性传输来提供基底表面上的被未涂布区域分隔开的涂布区域。上述基底表面包括具有高表面能量区域和低表面能量区域的预图案化层；其中涂布流体在基底表面上的接触角在高表面能量区域中比在低表面能量区域中小。低表面能量区域和高表面能量区域之间的边界沿上述狭槽式模具涂布头的狭缝方向布置。上述方法进一步包括将间歇性传输与流出开口在低表面能量区域与高表面能量区域之间的边界上方的经过同步化，其中当上述流出开口经过高表面能量区域上方时上述传输被启用，并且其中当上述流出开口经过低表面能量区域上方时上述传输被禁用。

主权项

用于在基底(1)上制造图案化涂布层的狭槽式模具涂布方法，所述方法包括：‑提供包括基底表面(1s)的所述基底(1)；‑提供包括流出开口(2a)的狭槽式模具涂布头(2)，使用时，涂布流体(3f)从所述流出开口(2a)流出，其中所述流出开口(2a)形成狭缝，使用时，所述狭缝沿狭缝方向(Y)布置在所述基底表面(1s)上方；‑控制所述流出开口(2a)和所述基底表面(1s)之间沿横向于所述狭缝方向(Y)的涂布方向(X)的相对运动；‑控制所述涂布流体(3f)从所述狭槽式模具涂布头(2)到所述基底表面(1s)上的间歇性传输(T)，以通过所述间歇性传输(T)在所述基底表面(1s)上提供被未涂布区域(3u)分隔开的涂布区域(3c)；其中‑所述基底表面(1s)包括具有高表面能量区域(4h)和低表面能量区域(4l)的预图案化层(4)；其中所述涂布流体(3f)在所述基底表面(1s)上的接触角在所述高表面能量区域(4h)中比在所述低表面能量区域(4l)中小；其中所述低表面能量区域(4l)与所述高表面能量区域(4h)之间的边界(4hl，4lh)沿所述狭缝方向(Y)布置；并且其中所述方法进一步包括：‑将所述间歇性传输(T)与所述流出开口(2a)在所述低表面能量区域(4l)与所述高表面能量区域(4h)之间的所述边界(4hl，4lh)上方的经过同步化，其中当所述流出开口(2a)经过高表面能量区域(4h)上方时传输被启用(T＝1)，并且其中当所述流出开口(2a)经过低表面能量区域(4l)上方时传输被禁用(T＝0)。