[发明专利]磁光材料及其制造方法以及磁光器件有效

专利信息
申请号: 201480040902.6 申请日: 2014-06-05
公开(公告)号: CN105378542B 公开(公告)日: 2018-01-16
发明(设计)人: 碇真宪 申请(专利权)人: 信越化学工业株式会社
主分类号: G02B27/28 分类号: G02B27/28;C01F17/00;C04B35/50
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所11038 代理人: 李英
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明提供一种磁光材料,其不吸收波段0.9~1.1μm的光纤激光,不引起热透镜的产生,维尔德常数大于TGG晶体,适合于构成光隔离器等磁光器件,其包含含有以由下述式(1)表示的稀土氧硫化物作为主成分的透明陶瓷、或者由下述式(1)表示的稀土氧硫化物的单晶,在波长1064nm处的维尔德常数为0.14min/(Oe·cm)以上。(TbxR1‑x)2O2S(1)(式中,x为0.3以上且小于1,R为选自钇、镥、钆、钬、钪、镱、铕、镝中的至少一种稀土元素)。
搜索关键词: 材料 及其 制造 方法 以及 器件
【主权项】:
磁光材料,其特征在于,包含:由下述式(1)表示的稀土氧硫化物的烧结体的透明陶瓷、或者由下述式(1)表示的稀土氧硫化物的单晶,波长1064nm处的维尔德常数为0.14min/(Oe·cm)以上,(TbxR1‑x)2O2S   (1),式中,x为0.3以上且小于1,R为选自钇、镥、钆、钬、钪、镱、铕、镝中的至少一种稀土元素。
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