[发明专利]铜和/或铜氧化物分散体、以及使用该分散体形成的导电膜有效
| 申请号： | 201480040975.5 | 申请日： | 2014-07-22 |
| 公开（公告）号： | CN105393312B | 公开（公告）日： | 2018-01-02 |
| 发明（设计）人： | 小川晋平;大野荣一;鹤田雅典 | 申请（专利权）人： | 旭化成株式会社 |
| 主分类号： | H01B5/14 | 分类号： | H01B5/14;C09C1/62;C09D11/03;C09D11/52;H01B1/20;H01L21/288;H01L29/786;H05K1/09;H05K3/12 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司11127 | 代理人： | 庞东成,李洋 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种铜和/或铜氧化物分散体，其能够形成对于经时变化显示出优异的稳定性且为微细的图案状的导电膜；提供一种导电膜层积体，其是将使用所述铜和/或铜氧化物分散体制造的导电膜层积而得到的；以及提供一种导电膜晶体管。所述铜和/或铜氧化物分散体含有0.50质量％以上60质量％以下的铜和/或铜氧化物微粒以及下述(1)～(4)(1)表面能调节剂；(2)具有磷酸基的有机化合物；(3)20℃的蒸汽压为0.010Pa以上且小于20Pa的溶剂0.050质量％以上10质量％以下；和(4)20℃的蒸汽压为20Pa以上150hPa以下的溶剂，并且，所述导电膜层积体是将含有铜的导电膜层积于基板上而得到的。 | ||
| 搜索关键词： | 氧化物 散体 以及 使用 形成 导电 | ||
【主权项】：
一种分散体，其是铜氧化物的分散体，其中，该分散体含有0.50质量％以上60质量％以下的铜氧化物微粒、以及下述(1)～(4)：(1)表面能调节剂；(2)具有磷酸基的有机化合物；(3)20℃的蒸汽压为0.010Pa以上且小于20Pa的溶剂0.050质量％以上10质量％以下；和(4)20℃的蒸汽压为20Pa以上150hPa以下的溶剂。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于旭化成株式会社，未经旭化成株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201480040975.5/，转载请声明来源钻瓜专利网。
