[发明专利]混合式(谱/非谱)成像探测器阵列和对应的处理电子设备有效
申请号: | 201480041115.3 | 申请日: | 2014-07-04 |
公开(公告)号: | CN105408940B | 公开(公告)日: | 2019-09-03 |
发明(设计)人: | R·普罗克绍 | 申请(专利权)人: | 皇家飞利浦有限公司 |
主分类号: | G06T11/00 | 分类号: | G06T11/00;A61B6/00;G01T1/29 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 李光颖;王英 |
地址: | 荷兰艾*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
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摘要: | 一种成像系统(100)包括探测穿过检查区域的辐射的探测器阵列(110)。所述探测器阵列包括至少非谱探测器(112)的集合,所述至少非谱探测器的集合探测穿过所述检查区域的所述辐射的第一子部分,并且生成指示所述第一子部分的第一信号。所述探测器阵列还包括至少谱探测器(114)的集合,所述至少谱探测器的集合探测穿过所述检查区域的所述辐射的第二子部分,并且生成指示所述第二子部分的第二信号。所述成像系统还包括重建器(120),所述重建器处理所述第一信号和所述第二信号,生成体积图像数据。 | ||
搜索关键词: | 混合式 成像 探测器 阵列 对应 处理 电子设备 | ||
【主权项】:
1.一种成像系统(100),包括:探测器阵列(110),其探测穿过检查区域的辐射,所述探测器阵列包括:至少非谱探测器(112)的集合,其探测穿过所述检查区域的所述辐射的第一子部分,并且生成指示所述第一子部分的第一信号;至少谱探测器(114)的集合,其探测穿过所述检查区域的所述辐射的第二子部分,并且生成指示所述第二子部分的第二信号;内部区域(116)和第一外部区域,其中,所述内部区域由谱探测器的所述集合的第一部分所占据,所述第一外部区域由谱探测器的所述集合的第二部分所占据;以及第二外部区域,其由非谱探测器的所述集合所占据;以及重建器(120),其处理所述第一信号和所述第二信号,生成体积图像数据。
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