[发明专利]用于差分相衬成像装置的X射线管的阳极有效

专利信息
申请号: 201480041331.8 申请日: 2014-07-22
公开(公告)号: CN105393331B 公开(公告)日: 2017-03-22
发明(设计)人: R·K·O·贝林 申请(专利权)人: 皇家飞利浦有限公司
主分类号: H01J35/10 分类号: H01J35/10;G21K1/02
代理公司: 永新专利商标代理有限公司72002 代理人: 李光颖,王英
地址: 荷兰艾*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 提出了一种差分相衬成像(DPCI)装置以及用于这样的DPCI装置的X射线管的阳极。阳极(39)包括可旋转的阳极盘(41),所述阳极盘具有接近其圆周(59)的焦点轨迹区域(51)。在加速电子撞击时,从焦斑(53)发射X射线(5)。阳极(39)还包括被固定地连接到阳极盘(41)的环状调制吸收栅格(55)。该调制吸收栅格(55)包括X射线吸收材料的壁部分(57)和在相邻壁部分(57)之间的狭缝(67)。相邻狭缝(67)之间的间隔小于焦斑(53)的宽度wf,例如小于100μm、优选地小于20μm,并且狭缝(67)具有小于50μm、优选地小于10μm的宽度。在阳极(39)旋转时,调制吸收栅格(55)可以用作DPCI装置中的源栅格,使得所生成的电子束(5)被周期性地调制。因此,在这样的DPCI装置中,相移栅格和相位分析器栅格可以是静止的,由此避免例如在X射线成像期间DPCI装置的部件移动时的定位不准确的风险。
搜索关键词: 用于 差分相衬 成像 装置 射线 阳极
【主权项】:
一种用于X射线管(37)的阳极(39),包括:阳极盘(41),其包括圆形焦点轨迹区域(51),所述圆形焦点轨迹区域适于在加速电子撞击时在横向于所述电子的撞击方向(63)的发射方向(65)上发射X射线(5);环状调制吸收栅格(55);其中,所述调制吸收栅格包围所述焦点轨迹区域;其中,所述调制吸收栅格包括X射线吸收材料的壁部分(57),所述壁部分被布置为吸收从所述焦点轨迹区域在所述发射方向上发射的X射线;其中,所述调制吸收栅格包括在相邻壁部分之间的狭缝(67),所述狭缝沿所述调制吸收栅格的圆周方向以小于100μm的间隔(s)被布置,并且所述狭缝在所述圆周方向上具有小于50μm的宽度(ws)。
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