[发明专利]用于轴密封系统的填料密封件的活性表面有效
申请号: | 201480041535.1 | 申请日: | 2014-07-22 |
公开(公告)号: | CN105453185B | 公开(公告)日: | 2018-02-06 |
发明(设计)人: | 佐伊·特比 | 申请(专利权)人: | 阿利发NP有限公司 |
主分类号: | G21C15/243 | 分类号: | G21C15/243;F16J15/34;G21D1/04 |
代理公司: | 中国商标专利事务所有限公司11234 | 代理人: | 宋义兴,周伟明 |
地址: | 法国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明涉及一种用于密封核反应堆的主电机驱动泵单元的轴(7),以确保所述主回路(8)与大气(9)之间的密封的系统(4)的填料密封件(1),所述填料密封件(1)包括旋转活性表面(10)和浮动活性表面(11),其中浮动活性表面(11)和/或旋转活性表面(10)的表面(12)由一排孔或柱(14)微或纳构造,每个孔或柱(14)均具有在10nm与5μm之间的横向尺寸和高度,两个连续孔或柱之间的距离在10nm与5μm之间。 | ||
搜索关键词: | 用于 密封 系统 填料 密封件 活性 表面 | ||
【主权项】:
一种用于密封核反应堆的主电机驱动泵单元的轴,以在主回路(8)与大气(9)之间提供密封的一系统的流体静力学填料密封件,其特征在于,所述流体静力学填料密封件具有一活性表面(10,11),该活性表面(10,11)具有由一排凹凸(14)构造的至少一个表面(12),每个凹凸(14)均具有在10nm与5μm之间的横向尺寸(D1,D4,D6),每个凹凸(14)均具有在10nm与5μm之间的高度(H1,H2,H3),两个连续的凹凸(14)之间的距离(D2,D3,D5)在10nm与5μm之间,所述凹凸(14)是孔(13)或柱(15)。
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