[发明专利]表面处理铜箔、附载体铜箔、基材、树脂基材、印刷配线板、覆铜积层板及印刷配线板的制造方法在审

专利信息
申请号: 201480041583.0 申请日: 2014-07-24
公开(公告)号: CN105408524A 公开(公告)日: 2016-03-16
发明(设计)人: 古曳伦也 申请(专利权)人: JX日矿日石金属株式会社
主分类号: C25D7/06 分类号: C25D7/06;B32B15/08;C25D1/04;H05K1/09;H05K3/18
代理公司: 北京戈程知识产权代理有限公司 11314 代理人: 程伟;王锦阳
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 提供一种可在去除铜箔后赋予基材面的轮廓形状的表面处理铜箔,该轮廓形状可维持微细配线形成性,且实现无电镀铜被膜的良好密合力。又,提供一种具备表面的轮廓形状的树脂基材,该轮廓形状可维持微细配线形成性,且实现无电镀铜被膜的良好密合力。本发明的表面处理铜箔,在铜箔上形成有表面处理层的表面处理铜箔,表面处理层表面的粒子相当面积比为0.1~0.85。
搜索关键词: 表面 处理 铜箔 载体 基材 树脂 印刷 线板 覆铜积层板 制造 方法
【主权项】:
一种表面处理铜箔,在铜箔上形成有表面处理层,该表面处理层表面的粒子相当面积比为0.1~0.85。
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