[发明专利]用于电子器件的材料有效
申请号: | 201480042710.9 | 申请日: | 2014-07-07 |
公开(公告)号: | CN105408449B | 公开(公告)日: | 2018-06-29 |
发明(设计)人: | 埃米尔·侯赛因·帕勒姆;伊里娜·马丁诺娃;安雅·雅提斯奇;托马斯·埃伯利;乔纳斯·瓦伦丁·克罗巴;克里斯托夫·普夫卢姆 | 申请(专利权)人: | 默克专利有限公司 |
主分类号: | C09K11/06 | 分类号: | C09K11/06;C07D471/04;C07D487/04;H05B33/10 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人: | 王潜;郭国清 |
地址: | 德国达*** | 国省代码: | 德国;DE |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及有特定空间排列的功能取代基的化合物,涉及包含所述功能取代基的器件,及涉及其制造和用途。 | ||
搜索关键词: | 功能取代 电子器件 空间排列 制造 | ||
【主权项】:
1.通式(1)的化合物
其中使用的符号和标记如下:A和A'是相同或不同的,并且是具有5或6个环原子并可以被一个或多个可以彼此独立的R1基团取代的芳族或杂芳族环;ETG是来自缺电子杂芳族基团的有机电子传输基团(ETG),并且其中所述ETG基团可以被一个或多个独立的R1基团取代;Z是单键或二价基团;当Z是单键时,所述ETG基团与A环的碳原子直接键合;V是O;W是单键、C=O、C(R1)2、NR1、O、S、Si(R1)2、BR1、PR1、P(=O)R1、SO或SO2,其中,在单键的情况下,A和A'环的碳原子通过单键彼此直接连接;m是0或1;n是0或1;其中m=n;Ar3是具有6至30个环原子的芳族环或环系,其中所述环或环系可各自被一个或多个R2基团取代,所述R2基团可以被一个或多个R3基团取代,其中两个或更多个R2基团可一起形成环;R1在每种情况下是相同或不同的,并且是H,D,F,Cl,Br,I,N(R2)2,CN,NO2,Si(R2)3,B(OR2)2,C(=O)R2,P(=O)(R2)2,S(=O)R2,S(=O)2R2,OSO2R2,具有1至40个碳原子的直链烷基、烷氧基或硫代烷氧基基团或者具有2至40个碳原子的直链烯基或炔基基团或者具有3至40个碳原子的支链或环状的烷基、烯基、炔基、烷氧基、烷基烷氧基或硫代烷氧基基团,所述基团中的每个可以被一个或多个R2基团取代,其中一个或多个不相邻的CH2基团可以被R2C=CR2、C≡C、Si(R2)2、Ge(R2)2、Sn(R2)2、C=O、C=S、C=Se、C=NR2、P(=O)(R2)、SO、SO2、NR2、O、S或CONR2代替,并且其中一个或多个氢原子可以被D、F、Cl、Br、I、CN或NO2代替,或者具有5至60个芳族环原子并且在每种情况下可以被一个或多个R2基团取代的芳族或杂芳族环系,或者具有5至60个芳族环原子并且可以被一个或多个R2基团取代的芳氧基、芳基烷氧基或杂芳氧基基团,或者具有10至40个芳族环原子并且可以被一个或多个R2基团取代的二芳基氨基基团、二杂芳基氨基基团或芳基杂芳基氨基基团,或者这些基团中的两种或更多种的组合,或者可交联的基团;R2在每种情况下是相同或不同的,并且是H,D,F,Cl,Br,I,N(R3)2,CN,NO2,Si(R3)3,B(OR3)2,C(=O)R3,P(=O)(R3)2,S(=O)R3,S(=O)2R3,OSO2R3,具有1至40个碳原子的直链烷基、烷氧基或硫代烷氧基基团或者具有2至40个碳原子的直链烯基或炔基基团或者具有3至40个碳原子的支链或环状的烷基、烯基、炔基、烷氧基、烷基烷氧基或硫代烷氧基基团,所述基团中的每个可以被一个或多个R3基团取代,其中一个或多个不相邻的CH2基团可以被R3C=CR3、C≡C、Si(R3)2、Ge(R3)2、Sn(R3)2、C=O、C=S、C=Se、C=NR3、P(=O)(R3)、SO、SO2、NR3、O、S或CONR3代替,并且其中一个或多个氢原子可以被D、F、Cl、Br、I、CN或NO2代替,或者具有5至60个芳族环原子并且在每种情况下可以被一个或多个R3基团取代的芳族或杂芳族环系,或者具有5至60个芳族环原子并且可以被一个或多个R3基团取代的芳氧基、芳基烷氧基或杂芳氧基基团,或者具有10至40个芳族环原子并且可以被一个或多个R3基团取代的二芳基氨基基团、二杂芳基氨基基团或芳基杂芳基氨基基团,或者这些基团中两种或更多种的组合;同时,两个或更多个相邻的R2基团可一起形成单或多环的脂族或芳族环系;R3在每种情况下是相同或不同的,并且是H,D,F,或者具有1至20个碳原子的脂族、芳族和/或杂芳族烃基基团,其中一个或多个氢原子还可以被F代替;同时,两个或更多个R3取代基也可一起形成单或多环的脂族或芳族环系;R4在每种情况下是相同或不同的,并且是具有6至60个芳族环原子并且在每种情况下可以被一个或多个R2基团取代的芳族环或环系,或者具有10至40个芳族环原子并且可以被一个或多个R2基团取代的芳基氨基基团,或者这些基团中的两个或更多个的组合;在这种情况下,两个或更多个相邻的R4基团可一起形成单或多环的脂族或芳族环系,其中排除如下的化合物:![]()
![]()
![]()
![]()
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于默克专利有限公司,未经默克专利有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201480042710.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种纯硼的制备方法
- 下一篇:一种破碎稀土-铁型合金的方法