[发明专利]用于原子层沉积的注入头有效
申请号: | 201480043143.9 | 申请日: | 2014-05-30 |
公开(公告)号: | CN105431567B | 公开(公告)日: | 2018-08-31 |
发明(设计)人: | 阿德里亚努斯·约翰尼斯·彼得鲁斯·玛丽亚·维梅尔;罗纳德·汉瑞卡·玛丽亚·范戴克 | 申请(专利权)人: | 索雷特克有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455 |
代理公司: | 北京聿宏知识产权代理有限公司 11372 | 代理人: | 刘华联;何娇 |
地址: | 荷兰埃*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
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摘要: | 用于在基板上沉积原子层的注入头,包括与连接单元相连的多个条状物。所述条状物具有带有间隔区异形部的、分别与邻近的条状物的侧壁相堆叠以形成多个堆叠的条状物的侧壁。所述条状物包括在条状物的整个长度上延伸的狭槽,所述狭槽与连接单元上相应的狭槽连通,限定出穿过条状物的、具有相对低的摩擦系数的流动路径,以形成相应的前驱体排放部、反应物排放部或阻碍气体排放部。所述间隔区异形部限定出在邻近的条状物之间延伸的狭缝,所述狭缝与连接单元上相应的狭槽连通。沿着条状物形成另一个具有相对高的摩擦系数的流动路径,以形成相应的前驱气体供给部、反应物气体供给部或流动阻碍部。 | ||
搜索关键词: | 用于 原子 沉积 注入 | ||
【主权项】:
1.用于在基板上沉积原子层的注入头,包括:沉积空间(2),具有前驱体供给部(4)及前驱体排放部(6);所述供给部及排放部设置成用以提供来自前驱体供给部经由沉积空间到达前驱体排放部的前驱气体流;所述沉积空间在使用中由注入头和基板表面界定出;流动阻碍部(7),设置成用于在所述注入头与所述基板表面之间注入阻碍气体流;另一个沉积空间(3),具有反应物供给部(40),所述另一个沉积空间在使用中通过流动阻碍部(7)而与前驱气体隔离开,并且布置成用于提供反应物气体、等离子体、激光产生的辐射和紫外线辐射中的至少一种,以在前驱气体沉积在至少一部分基板表面上后使前驱体发生反应;以及连接单元(150),能够与相应的多个气体供给源及排放收集器相连,进而使相应的气体通过所述连接单元进入到相应的前驱体沉积空间、反应物沉积空间以及流动阻碍部;其中,多个条状物(160)与所述连接单元相连,所述条状物具有带有间隔区异形部(69)的侧壁(165),所述侧壁分别堆叠到邻近的条状物的侧壁上以形成多个堆叠的条状物;所述条状物包括在条状物的整个长度上延伸的狭槽,所述狭槽与连接单元上相应的狭槽连通,从而限定出穿过所述条状物的、具有相对低的摩擦系数的流动路径,以形成相应的前驱体排放部、反应物排放部或阻碍气体排放部;并且所述间隔区异形部(69)限定出在邻近的条状物之间延伸的狭缝(161),所述狭缝(161)与所述连接单元上相应的狭槽(162)连通,从而限定出沿着条状物的、具有相对高的摩擦系数的另一个流动路径,以形成相应的前驱气体供给部、反应物气体供给部或流动阻碍部。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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