[发明专利]基于瓦片的图形处理方法和装置有效
| 申请号： | 201480043831.5 | 申请日： | 2014-06-16 |
| 公开（公告）号： | CN105453137B | 公开（公告）日： | 2019-11-05 |
| 发明（设计）人： | 达伦·克罗克斯福特;托马斯·詹姆斯·库克西;斯恩·特里斯拉姆·艾利斯 | 申请（专利权）人： | ARM有限公司 |
| 主分类号： | G06T11/40 | 分类号： | G06T11/40;G06T15/00 |
| 代理公司： | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258 | 代理人： | 李晓冬 |
| 地址： | 英国*** | 国省代码： | 英国;GB |
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| 摘要： | 本文提供一种基于瓦片的图形处理方法和装置。瓦片元数据包括标志数据(tfd)，例如透明性及/或强度标志数据，该标志数据指示给定输入图形瓦片对于对应输出图形瓦片所作的贡献是小于预定第一贡献阈值水平，还是大于预定第二贡献阈值水平。例如，如若输入图形瓦片是透明的，则自存储器(6)中对输入图形瓦片的读取及/或后续处理可被抑制。如若给定输入图形瓦片是不透明的，则任何不透明的下层输入图形瓦片的读取及/或进一步处理可被抑制。 | ||
| 搜索关键词： | 瓦片 输入图形 标志数据 读取 方法和装置 图形处理 阈值水平 不透明 后续处理 输出图形 存储器 透明的 元数据 下层 | ||
【主权项】：
1.一种用于处理图形数据以生成多个输出图形瓦片的设备，所述瓦片共同形成一输出图形帧，该设备包括：合成电路系统，被配置以针对共同瓦片区域结合一个或更多个输入图形瓦片以形成针对所述共同瓦片区域的输出图形瓦片；其中所述一个或更多个输入图形瓦片中的每一者具有关联的瓦片标志数据；及行为修正电路系统，被配置以读取所述一个或更多个输入图形瓦片针对所述共同瓦片区域的瓦片标志数据，并且依据瓦片标志数据控制对所述一个或更多个输入图形瓦片的处置,其中所述关联的瓦片标志数据指示以下各者中一者或更多者：(i)所述输入图形瓦片对于所述输出图形瓦片作出的贡献小于第一贡献阈值水平；及(ii)所述输入图形瓦片对于所述输出图形瓦片作出的贡献大于第二贡献阈值水平。
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