[发明专利]低温下的蚀刻速率提高有效
申请号: | 201480046056.9 | 申请日: | 2014-06-20 |
公开(公告)号: | CN105473522B | 公开(公告)日: | 2019-12-03 |
发明(设计)人: | R·C·伯克特;B·Y·约翰逊;S·O·澳乌苏;T·L·佩特里司凯 | 申请(专利权)人: | 康宁股份有限公司 |
主分类号: | C03C15/00 | 分类号: | C03C15/00 |
代理公司: | 31100 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人: | 陈哲锋;郭辉<国际申请>=PCT/US2 |
地址: | 美国*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 一种蚀刻玻璃材料的方法,该方法包含提供蚀刻剂,该蚀刻剂包含10‑30体积%HF、5‑15体积%HNO3,和至少10体积%H3PO4,构成该蚀刻剂从而HF:HNO3的体积比例是1.7:1到2.3:1,提供待蚀刻的玻璃材料,和使该玻璃材料接触所述蚀刻剂。理想地,该蚀刻剂不具有其它酸组分。该方法可在20‑30℃的蚀刻剂温度下实施。玻璃材料可为铝硅酸盐玻璃。可将超声能量施加到蚀刻剂、玻璃材料或两者。 | ||
搜索关键词: | 低温 蚀刻 速率 提高 | ||
【主权项】:
1.一种蚀刻玻璃材料的方法,该方法包括:/n提供蚀刻剂,该蚀刻剂包含19-21体积%HF、9.5-10.5体积%HNO3,和至少40体积%H3PO4,且其中HF:HNO3的体积比例是1.7:1到2.3:1,其中HF、HNO3和H3PO4分别表示63%母液HNO3溶液、49%母液HF溶液和85%母液H3PO4溶液;/n提供待蚀刻的玻璃材料;和/n使该玻璃材料接触该蚀刻剂,/n其中该蚀刻剂不具有除了HF、HNO3和H3PO4以外的其它酸成分。/n
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