[发明专利]层叠体有效
| 申请号： | 201480046127.5 | 申请日： | 2014-08-22 |
| 公开（公告）号： | CN105474099B | 公开（公告）日： | 2019-09-03 |
| 发明（设计）人： | 加持义贵;小山一郎;岩井悠;中村敦 | 申请（专利权）人： | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/095 | 分类号： | G03F7/095;G03F7/004;G03F7/038;G03F7/039;G03F7/11 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 蒋亭 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种可在有机半导体上形成良好的图案的层叠体。本发明的层叠体在有机半导体膜的表面至少依次具有水溶性树脂膜、以及包含化学增幅型感光性树脂组合物的抗蚀剂膜，其中，化学增幅型感光性树脂组合物含有当在波长365nm时曝光100mJ/cm2以上时分解80摩尔％以上的光产酸剂，曝光部因难溶于包含有机溶剂的显影液而能够形成掩模图案，且在形成掩模图案后用作蚀刻的掩模。 | ||
| 搜索关键词： | 层叠 | ||
【主权项】：
1.一种层叠体，其在有机半导体膜的表面至少依次具有水溶性树脂膜及包含化学增幅型感光性树脂组合物的抗蚀剂膜，其中，所述化学增幅型感光性树脂组合物含有在波长365nm下曝光100mJ/cm2以上时分解80摩尔％以上的光产酸剂，曝光部因难溶于包含有机溶剂的显影液而能够形成掩模图案，且在形成掩模图案后用作蚀刻的掩模。
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