[发明专利]导电膜及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201480046282.7 申请日: 2014-12-26
公开(公告)号: CN105612589B 公开(公告)日: 2018-08-28
发明(设计)人: 裵成学;李振龙;韩尚澈 申请(专利权)人: LG化学株式会社
主分类号: H01B5/14 分类号: H01B5/14;H01B13/00
代理公司: 北京金信知识产权代理有限公司 11225 代理人: 朱梅;师杨
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要: 发明涉及一种导电膜及一种用于制备所述导电膜的方法,所述导电膜包括:多个凹槽单元,其水平剖面以网格形式形成;以及多个单元格,其为由所述凹槽单元围绕的区域,其中所述凹槽单元的至少一部分包含经由分隔单元分隔而形成的导电图案。
搜索关键词: 导电 及其 制造 方法
【主权项】:
1.一种导电膜,包括:多个凹槽单元,其水平剖面是以网格形式形成;以及多个单元格,其为由所述凹槽单元围绕的区域,其中所述凹槽单元包含导电图案,所述导电图案的至少一部分经由分隔单元分隔而形成,其中,在所述导电膜中,基于所述凹槽单元的底表面测量的所述分隔单元的水平剖面面积的总和为所述凹槽单元的水平剖面面积的总和的25%至60%,其中,所述导电图案是以两个或更多个层形成,并且一个层被用作粘合强度调节层或吸收层。
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