[发明专利]二氧化硅磨粒、二氧化硅磨粒的制造方法和磁盘用玻璃基板的制造方法有效
| 申请号： | 201480046423.5 | 申请日： | 2014-09-30 |
| 公开（公告）号： | CN105518780B | 公开（公告）日： | 2019-03-12 |
| 发明（设计）人： | 德光秀造 | 申请（专利权）人： | HOYA株式会社 |
| 主分类号： | G11B5/84 | 分类号： | G11B5/84;B24B37/04;C09K3/14 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 庞东成 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种二氧化硅磨粒，其不会对研磨对象物造成损伤，且不会降低研磨速度。对于所述二氧化硅磨粒，磨粒内部的硅烷醇基(Si‑OH)相对于磨粒整体的硅元素(Si)的比值(Si‑OH)/Si为0.4以上。 | ||
| 搜索关键词： | 二氧化硅 制造 方法 磁盘 玻璃 | ||
【主权项】：
1.一种磁盘用玻璃基板的制造方法，该制造方法具有研磨处理，所述研磨处理是向玻璃基板的主表面与研磨垫之间供给含有二氧化硅磨粒作为游离磨粒的研磨液从而对所述玻璃基板的主表面进行研磨，其中，对于所述二氧化硅磨粒，利用六甲基二硅氮烷将磨粒表面的硅烷醇基(Si‑OH)三甲基硅烷基化后，利用核磁共振分光法29Si‑NMR进行测量，与OH直接结合的Si的光谱强度与仅与O直接结合的Si的光谱强度之比(Si‑OH)/Si为0.4以上0.502以下。
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