[发明专利]具有冷却真空密闭体的热壁反应器

摘要

于此提供用于处理基板的方法及设备。在一些实施方式中，用于处理基板的设备包含室主体，该室主体封闭处理空间，该室主体包括室地板、与该室地板耦合的室壁、及与该室壁可移除地耦合的室盖，其中该室地板、该室壁及该室盖的至少一者包括用于热控制介质的流动的通路；加热板，该加热板与该室地板相邻且间隔开来设置；套管，该套管与该室壁相邻且间隔开来设置，该套管由该加热板而受支持；及第一密封性元件，该第一密封性元件在该室壁及该室盖间的第一界面处设置。

主权项

1.一种用于处理基板的设备，包括：室主体，所述室主体封闭处理空间，所述室主体包括室地板、与所述室地板耦合的室壁、及与所述室壁可移除地耦合的室盖，其中所述室地板、所述室壁及所述室盖的至少一者包括用于热控制介质的流动的通路；加热板，所述加热板与所述室地板相邻且间隔开来设置；套管，所述套管与所述室壁相邻且间隔开来设置，所述套管由所述加热板而受支持，其中所述套管包括：室衬垫，所述室衬垫包括下管道，所述下管道由内壁、外壁、上壁、及下壁来界定边界；及泵送环，所述泵送环包括由网状物而结合的上凸缘及下凸缘；其中所述上凸缘由所述上壁而受支持，且所述下凸缘由所述内壁的上端而受支持，使得所述泵送环、所述外壁、及所述上壁形成上管道的边界；及第一密封性元件，所述第一密封性元件在所述室壁及所述室盖之间的第一界面处设置。