[发明专利]尤其用于微光刻投影曝光设备的镜子有效
| 申请号： | 201480049179.8 | 申请日： | 2014-06-25 |
| 公开（公告）号： | CN105518532B | 公开（公告）日： | 2018-10-09 |
| 发明（设计）人： | M.赫尔曼 | 申请（专利权）人： | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G21K1/06 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 侯宇 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 本发明涉及一种镜子，尤其是用于微光刻投影曝光设备的镜子。根据本发明的镜子(10、20、30、40)具有光学作用面(10a、20a、30a、40a)、镜子衬底(11、21、31、41)和用于反射撞击到所述光学作用面(10a、20a、30a、40a)上的电磁射线的反射层垛(14、24、34、44)；其中在镜子衬底(11、21、31、41)与反射层垛(14、24、34、44)之间布置由III族氮化物构成的层(13、23、33、43)，其中所述III族氮化物从包含氮化镓(GaN)、氮化铝(AlN)和铝镓氮化物(AlGaN)的组中选出。 | ||
| 搜索关键词： | 尤其 用于 微光 投影 曝光 设备 镜子 | ||
【主权项】：
1.一种镜子，其中所述镜子具有光学作用面，所述镜子具有：‑镜子衬底(11、21、31、41)；和‑用于反射撞击到所述光学作用面(10a、20a、30a、40a)上的电磁射线的反射层垛(14、24、34、44)；‑其中，在镜子衬底(11、21、31、41)与反射层垛(14、24、34、44)之间布置由III族氮化物构成的层(13、23、33、43)，其中所述III族氮化物从包含氮化镓(GaN)、氮化铝(AlN)和铝镓氮化物(AlGaN)的组中选出；‑其中，所述层(13、23、33、43)的厚度在0.1μm至100μm的范围内；并且‑其中，所述镜子是微光刻投影曝光设备的镜子，‑其中，所述III族氮化物是无定形的，‑其中，所述镜子衬底(11、21)由金属材料制成或由掺入二氧化钛(TiO2)的石英玻璃制成。
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