[发明专利]基板处理装置、器件制造系统、器件制造方法及图案形成装置

摘要

本发明的目的在于进一步减少对曝光单元带来的振动，通过曝光单元良好地进行曝光。基板处理装置(U3)具有：设在设置面(E)上的减振台(131)；设在减振台(131)上且对供给的基板(P)进行曝光处理的曝光单元(121)；和设在设置面(E)上且与曝光单元(121)以非接触的独立状态设置、并作为对曝光单元(121)进行处理的处理单元的位置调整单元(120)及驱动单元(122)。

主权项

1.一种基板处理装置，将长尺寸的挠性的片材基板沿长边方向搬送并实施曝光处理，其特征在于，具有：减振台，其设在设置面上；曝光单元，其设在所述减振台上，且一边在用旋转滚筒的外周面的一部分将供给的所述片材基板支承为圆筒面状的状态下沿长边方向搬送，一边对供给的所述片材基板进行曝光处理；位置调整单元，其设在所述设置面上且与所述曝光单元以非接触的独立状态设置，所述位置调整单元具有：设在所述设置面上的基台；宽度方向移动机构，其设在所述基台上，且使所述片材基板相对于所述基台沿与所述长边方向正交的宽度方向移动；和固定辊，其设在所述基台上的被固定的位置，将通过所述宽度方向移动机构进行位置调整后的所述片材基板朝向所述曝光单元引导，推压机构，其对从所述位置调整单元向所述曝光单元供给的所述片材基板以赋予张力的方式进行推压；第1基板检测部，其固定地设在所述减振台上，检测供给到所述曝光单元的所述片材基板的位置；和控制部，其基于所述第1基板检测部的检测结果来控制所述推压机构，从而调整对所述片材基板的推压量，减少向所述旋转滚筒供给的所述片材基板的振动。