[发明专利]触摸面板的制造方法无效
| 申请号： | 201480049457.X | 申请日： | 2014-09-09 |
| 公开（公告）号： | CN105518594A | 公开（公告）日： | 2016-04-20 |
| 发明（设计）人： | 水村通伸 | 申请（专利权）人： | 株式会社V技术 |
| 主分类号： | G06F3/041 | 分类号： | G06F3/041;G06F3/044 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 李洋;青炜 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供触摸面板的制造方法。在包括金属膜、绝缘膜以及透明电极膜的触摸面板的制造方法中，金属膜以及绝缘膜的图形化包括使用印刷用掩膜印刷形成光致抗蚀剂的图案的工序(S4、S5、S10、S11)、以及将光致抗蚀剂的图案作为掩膜进行湿式蚀刻从而图形化的工序(S6、S12)，透明电极膜的形成包括使用具有与应形成的图案对应的开口图案的溅射用掩膜对被图案化的透明电极膜进行溅射成膜的工序。通过使用印刷用掩膜利用印刷形成光致抗蚀剂的图案，且使用溅射用掩膜对被图案化的膜进行成膜，从而能够排除光学加工，因此能够减少设备成本与运行成本。 | ||
| 搜索关键词： | 触摸 面板 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种触摸面板的制造方法，其是包括金属膜、绝缘膜以及透明电极膜的触摸面板的制造方法，所述触摸面板的制造方法的特征在于，所述金属膜以及所述绝缘膜的图形化包括：使用印刷用掩膜印刷形成光致抗蚀剂的图案的工序；以及将所述光致抗蚀剂的图案作为掩膜进行湿式蚀刻从而图形化的工序，所述透明电极膜的形成包括使用具有与应形成的图案对应的开口图案的溅射用掩膜对被图案化的透明电极膜进行溅射成膜的工序。
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