[发明专利]用于制造由嵌段共聚物成分获得的厚的纳米结构化膜的方法有效
| 申请号： | 201480049607.7 | 申请日： | 2014-09-05 |
| 公开（公告）号： | CN105518089B | 公开（公告）日： | 2020-11-10 |
| 发明（设计）人： | C.纳瓦罗;X.希瓦利埃;C.尼科利特;I.伊利奥普洛斯;R.蒂朗;G.弗勒里;G.哈齐约安努 | 申请（专利权）人： | 阿科玛法国公司;国家科学研究中心;波尔多大学;波尔多理工学院 |
| 主分类号： | C09D153/00 | 分类号： | C09D153/00;C08F293/00;C08J5/18;G03F7/16;C08L53/00;G03F7/06 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 宋莉;金拟粲 |
| 地址： | 法国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及用于在表面上无纳米结构缺陷地制造由嵌段共聚物获得的纳米结构化膜的方法，所述嵌段共聚物呈现在1.1和2之间的分散度指数(包括界限)，从而使该经处理的表面能够用作在微电子应用中使用的掩模。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 制造 共聚物 成分 获得 纳米 结构 方法 | ||
【主权项】：
一种用于制造由嵌段共聚物成分获得的、具有最少缺陷的、厚的纳米结构化膜的方法，所述嵌段共聚物成分的分散度呈现在1.1和2之间的值，所述方法包括以下阶段：‑制备嵌段共聚物成分，所述嵌段共聚物成分的分散度呈现在1.1和2之间的值，‑将所述成分以溶液或不以溶液沉积在表面上，‑退火。
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