[发明专利]表面处理设备和表面处理方法在审
| 申请号： | 201480049622.1 | 申请日： | 2014-09-05 |
| 公开（公告）号： | CN105658841A | 公开（公告）日： | 2016-06-08 |
| 发明（设计）人： | 尹荣秀;池昇炫;李锡熙;李江洙;禹盛弼;孙永辰 | 申请（专利权）人： | 嘉泉大学敎产学协力团 |
| 主分类号： | C23C16/50 | 分类号： | C23C16/50;C23C16/52 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人： | 杨贝贝;臧建明 |
| 地址： | 韩国京畿道城*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明公开一种表面处理设备和表面处理方法，所述表面处理设备包括：用于容纳工件的反应管，反应管在其内侧上提供有反应空间；用于将反应管加热到预定温度的加热单元，加热单元安置于反应管外侧上；第一电极和第二电极，其经安置以在反应管内侧上彼此面对，其中至少一个工件插入于第一电极与第二电极之间；电力供应单元，其用于将电力供应到第一电极和第二电极；以及反应气体供应单元，其用于将反应气体供应到反应管内侧。 | ||
| 搜索关键词： | 表面 处理 设备 方法 | ||
【主权项】：
一种表面处理设备，包括：反应管，其中提供有反应空间；加热部分，安置于所述反应管的外部，用于将所述反应管加热到预定温度；第一电极和第二电极，其提供于所述反应管的内部以彼此面对以在其间提供至少一或多种待处理的物品；电力供应部分，其用于将电力供应到所述第一电极和所述第二电极；以及反应气体供应部分，其用于将反应气体供应到所述反应管中。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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