[发明专利]使用改进的化学品来去除光致抗蚀剂的方法和设备在审
| 申请号： | 201480050598.3 | 申请日： | 2014-07-09 |
| 公开（公告）号： | CN105531042A | 公开（公告）日： | 2016-04-27 |
| 发明（设计）人： | 丹尼尔·L·古德曼;马尼·索博希安;阿瑟·凯格勒 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创尼克斯公司 |
| 主分类号： | B08B3/00 | 分类号： | B08B3/00 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 蔡胜有;苏虹 |
| 地址： | 美国马*** | 国省代码： | 美国;US |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本文中所公开的技术包括在不使用高浓度的有毒化学品以及不需要频繁的浴更换的情况下用于从衬底剥除抗蚀剂的方法和设备。技术包括使用在没有充分溶解抗蚀剂的情况下剥离抗蚀剂的化学品，配合使用机械搅拌和高速流体流动来将所去除的抗蚀剂机械地破碎成小颗粒。然后可以通过高流量循环将抗蚀剂颗粒从晶片的附近去除出加工槽。接着可以对循环流进行过滤以从循环流体去除抗蚀剂颗粒并且将循环流再引入到加工槽中。过滤系统还可以在循环期间或循环停止时将颗粒从过滤器去除。 | ||
| 搜索关键词： | 使用 改进 化学品 去除 光致抗蚀剂 方法 设备 | ||
【主权项】：
一种从衬底去除抗蚀剂膜的方法，所述方法包括：在加工槽中准备液浴，所述液浴包含剥离化学品，在所述剥离化学品与给定的抗蚀剂层流体接触时，所述剥离化学品降低所述给定的抗蚀剂层对给定的表面的粘附性；将具有抗蚀剂膜的衬底置于包含所述剥离化学品的所述液浴中；充分地物理搅拌所述液浴，使得所述抗蚀剂膜从所述衬底分离并且使所述抗蚀剂膜机械地破碎成抗蚀剂颗粒，其中少于约10％的所述抗蚀剂膜溶解在所述液浴中；以及使所述液浴流出所述加工槽，以使得从所述加工槽去除所述抗蚀剂颗粒。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东京毅力科创尼克斯公司，未经东京毅力科创尼克斯公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201480050598.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
