[发明专利]多层抛光垫有效
申请号: | 201480052077.1 | 申请日: | 2014-09-23 |
公开(公告)号: | CN105579194B | 公开(公告)日: | 2019-04-26 |
发明(设计)人: | P·S·拉格;D·K·勒胡 | 申请(专利权)人: | 3M创新有限公司 |
主分类号: | B24B37/22 | 分类号: | B24B37/22;B24B37/04 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 牛海军 |
地址: | 美国明*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 本发明公开了一种多层抛光垫布置结构,所述多层抛光垫布置结构包括具有第一顶部主表面和第一底部主表面的第一抛光垫层、具有第二顶部主表面和第二底部主表面的第二抛光垫层、和设置在所述第一底部表面与所述第二顶部表面之间的耦接布置结构。所述第一抛光垫层和所述第二抛光垫层中的每个的厚度在介于0.125mm和10mm之间的范围内。 | ||
搜索关键词: | 多层 抛光 | ||
【主权项】:
1.一种用于抛光基板的系统,所述系统包括:载体组件,所述载体组件被构造成用于接收并保持所述基板;抛光垫,所述抛光垫包括:基底层,所述基底层具有第一主表面和与所述第一主表面相背对的第二主表面,其中所述第一主表面包括多个腔,所述多个腔从所述第一主表面延伸到所述基底层中;和压板,其中所述抛光垫被耦接到所述压板,使得所述第二主表面是工作表面;和设置在抛光垫和基板之间的抛光液,其中所述抛光液包含:流体组分,和陶瓷磨料复合物,其中所述陶瓷磨料复合物包含分散在多孔陶瓷基体中的单独的磨料颗粒,并且其中所述陶瓷磨料复合物分散在所述流体组分中;并且其中所述系统被构造成使得所述抛光垫能够相对于所述基板运动以进行抛光操作。
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