[发明专利]等离子体反应器容器和组件、和执行等离子体处理的方法

摘要

等离子体反应器容器包括真空腔室；在真空腔室中的第一电极；在真空腔室中、与第一电极相对并且与第一电极间隔的第二电极；电连接至第一或第二电极的其中之一的电源；包括导电材料的基板载体，基板载体配置为与第二电极电接触并且保持基板，使得基板的上表面和下表面的至少大部分未被等离子体反应器的任何部分触摸并且可以暴露于等离子体；其中，反应器容器还包括第三电极，第三电极包括在基板载体与第二电极之间，其中第三电极与所述第二电极电绝缘；以及其中第三电极和基板载体布置为使得，在基板载体保持基板时，第一隙距包括在基板与第三电极之间。还提供了对应组件以及用于执行等离子体处理的方法。

主权项

等离子体反应器容器，包括：真空腔室；在所述真空腔室中的第一电极；在所述真空腔室中、与所述第一电极相对并且与所述第一电极间隔的第二电极；用于在所述真空腔室中提供反应工艺气体的装置；电连接至所述第一或第二电极的其中之一的电源，用于将主RF电压施加至所述第一和第二电极的其中之一，另一电极接地；包括导电材料的基板载体，所述基板载体配置为与所述第二电极电接触并且保持基板，使得所述基板的上表面的至少大部分和所述基板的下表面的至少大部分未被所述等离子体反应器的任何部分触摸并且能够暴露于等离子体；所述反应器容器还包括第三电极，所述第三电极位于所述基板载体与所述第二电极之间，其中所述第三电极与所述第二电极电绝缘；以及其中所述第三电极和所述基板载体布置为使得，在所述第三电极与被所述基板载体保持的基板之间存在第一隙距。