[发明专利]用于制造放射性同位素的系统、方法和设备有效
| 申请号： | 201480052780.2 | 申请日： | 2014-08-07 |
| 公开（公告）号： | CN105555740B | 公开（公告）日： | 2020-03-03 |
| 发明（设计）人： | T.埃里克松;P.达尔贝格;S.金罗赫;M.瓦伦;J.O.诺尔林;M.奥尔贝 | 申请（专利权）人： | 通用电气公司 |
| 主分类号： | C07B59/00 | 分类号： | C07B59/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 周李军;黄希贵 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 用于制备放射性药物的独立放射性药物制备热室，其包括外壳和多个在外壳内限定的隔室。所述多个隔室包括至少药物合成和分配隔室与不同的第二隔室，使用隔室压力系统，使合成和分配隔室维持在第一压力且第二隔室维持在不同的第二压力。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 制造 放射性同位素 系统 方法 设备 | ||
【主权项】：
一种用于制备放射性药物的独立放射性药物制备热室，所述热室包含：外壳；在所述外壳内限定的多个隔室，所述多个隔室包括至少药物合成和分配隔室与不同的第二隔室；和隔室压力系统配置，用于维持所述合成和分配隔室处于第一压力并维持所述第二隔室处于不同的第二压力。
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