[发明专利]在EUV照射下没有膨胀的用于EUV光刻的反射镜毛坯有效
| 申请号： | 201480053715.1 | 申请日： | 2014-09-10 |
| 公开（公告）号： | CN105579410B | 公开（公告）日： | 2020-08-04 |
| 发明（设计）人： | K.贝克;S.托马斯 | 申请（专利权）人： | 赫罗伊斯石英玻璃股份有限两合公司 |
| 主分类号： | C03C3/06 | 分类号： | C03C3/06;C03B19/14;G02B5/08;G03F7/20 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 卢江;张涛 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及用于EUV反射镜的衬底，所述衬底具有过零温度的偏离统计分布的变化过程。此外，本发明涉及用于制造用于EUV反射镜的衬底的方法及其使用，其中所述衬底中的过零温度的变化过程与反射镜的运行温度适配，以及涉及在使用这种衬底的情况下的光刻方法。 | ||
| 搜索关键词： | euv 照射 没有 膨胀 用于 光刻 反射 毛坯 | ||
【主权项】：
用于EUV反射镜的衬底，其特征在于，所述衬底在表面上具有偏离统计分布的过零温度，其中所述衬底在所述表面上具有彼此相差多于1.5K的最小过零温度（Tzcmin）和最大过零温度（Tzcmax）。
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