[发明专利]除草化合物

摘要

本发明涉及具有化学式(I)的吡咯酮化合物其中X、R¹、R²、R³、R^a、R^b、R^c以及R^d是如在说明书中所定义的。此外，本发明涉及用于制备具有化学式(I)的化合物的方法和中间体，涉及包含这些化合物的除草组合物并且涉及使用这些化合物控制植物生长的方法。

主权项

一种具有化学式(I)的除草化合物其中X选自S和O；R^a选自氢和卤素；R^b选自氢，卤素，C₁‑C₄烷基，C₂‑C₄烯基，C₁‑C₄卤代烷基，C₁‑C₆烷氧基，C₂‑C₄烯氧基，C₂‑C₄炔氧基，C₁‑C₄烷氧基‑C₁‑C₄烷基，C₁‑C₄卤代烷氧基，C₁‑C₃烷氧基‑C₁‑C₃烷氧基，C₁‑C₄烷硫基，C₁‑C₄烷基亚磺酰基，C₁‑C₄烷基磺酰基，基团R⁵R⁶N‑，基团R⁵C(O)N(R⁶)‑，基团R⁵S(O₂)N(R⁶)‑，基团R⁵R⁶NSO₂‑，基团R⁵R⁶NC(O)‑，任选地被一个或多个独立地选自卤素、硝基、氰基、C₁‑C₃烷基、C₁‑C₃烷氧基、C₁‑C₃卤代烷基和C₁‑C₃卤代烷氧基的基团取代的芳基，任选地被一个或多个独立地选自卤素、硝基、氰基、C₁‑C₃烷基、C₁‑C₃烷氧基、C₁‑C₃卤代烷基和C₁‑C₃卤代烷氧基的基团取代的芳氧基以及任选地被一个或多个独立地选自卤素、硝基、氰基、C₁‑C₃烷基、C₁‑C₃烷氧基、C₁‑C₃卤代烷基和C₁‑C₃卤代烷氧基的基团取代的杂芳基；R^c选自氢，卤素，C₁‑C₈烷基，C₁‑C₆卤代烷基，C₂‑C₈烯基，C₁‑C₆氰基烷基，C₁‑C₆烷氧基，C₁‑C₄烷氧基‑C₁‑C₄烷基，C₁‑C₆羟基烷基，C₂‑C₆烯氧基C₁‑C₆烷基以及任选地被从1至3个独立地选自氰基、C₁‑C₃烷基和C₁‑C₃烷氧基的基团取代的C₃‑C₆环烷基；R^d选自氢、卤素、氰基、C₁‑C₆烷基以及C₁‑C₆卤代烷基；R¹选自氢、羟基、C₁‑C₄烷基、C₂‑C₄烯基、C₂‑C₄炔基、C₁‑C₄氰基烷基、C₃‑C₆环烷基、C₁‑C₄烷氧基、C₁‑C₄烷氧基‑C₁‑C₄烷基以及C₁‑C₄卤代烷基，并且R²选自氢、羟基、C₁‑C₄烷基、C₂‑C₄烯基、C₁‑C₄烷氧基、C₂‑C₄烯氧基、C₂‑C₄炔氧基、C₁‑C₄烷氧基‑C₁‑C₄烷基、C₁‑C₄烷氧基‑C₁‑C₄烷氧基、C₁‑C₄羟基烷基、C₁‑C₄卤代烷基、C₁‑C₃卤代烷氧基以及C₁‑C₄氰基烷基，附带条件是当R¹是甲基时，R²不是H；或R¹和R²连同它们附接的氮和碳原子一起形成3‑7元饱和或部分不饱和环，该环任选地包含从1至3个独立地选自S、O和N的杂原子并且任选地被从1至3个独立地选自羟基、＝O、C₁‑C₆烷基和C₁‑C₆卤代烷基的基团取代。R³选自卤素、羟基、‑NR¹⁴R¹⁵或以下基团中的任一个R⁵和R⁶独立地选自氢、C₁‑C₆烷基、C₁‑C₆卤代烷基、C₁‑C₆氰基烷基、C₂‑C₆烯基、C₂‑C₆炔基、C₁‑C₆烷氧基以及C₁‑C₆烷氧基‑C₁‑C₆烷基，或R⁵和R⁶连同它们附接的碳原子一起形成3‑6元饱和或部分不饱和环，该环任选地包括从1至3个独立地选自S、O和N的杂原子并且任选地被从1至3个独立地选自卤素和C₁‑C₆烷基的基团取代；R⁷和R⁸独立地选自氢，C₁‑C₆烷基，C₁‑C₆卤代烷基，C₂‑C₆烯基，C₂‑C₆炔基，任选地被1至3个独立地选自C₁‑C₃烷基、C₂‑C₄烯基、C₁‑C₃卤代烷基和C₂‑C₄卤代烯基的基团取代的C₃‑C₆环烷基基团，包含从1至4个独立地选自N、O和S的杂原子并且任选地被1至3个独立地选自卤素、C₁‑C₃烷基、C₁‑C₃卤代烷基和C₁‑C₃烷氧基取代的可以是单环或双环的C₅‑C₁₀杂环基基团，包含从1至4个独立地选自N、O和S的杂原子并且任选地被1至3个独立地选自卤素、C₁‑C₃烷基、C₁‑C₃卤代烷基和C₁‑C₃烷氧基的基团取代的可以是单环或双环的C₅‑C₁₀杂芳基基团，任选地被1至3个独立地选自卤素、硝基、氰基、C₁‑C₃烷基、C₁‑C₃烷氧基、C₁‑C₃卤代烷基和C₁‑C₃卤代烷氧基的基团取代的C₆‑C₁₀芳基基团，任选地被1至3个独立地选自C₁‑C₄烷基、C₁‑C₃烷氧基、C₁‑C₃卤代烷基和基团‑OC(O)‑C₁‑C₄烷基取代的C₆‑C₁₀芳基烷基基团，或R⁷和R⁸连同它们附接的原子一起形成3‑6元饱和或部分不饱和环，该环任选地包含从1至3个独立地选自S、O和N的杂原子并且任选地被从1至3个独立地选自卤素和C₁‑C₆烷基的基团取代；R⁹选自C₁‑C₆烷基和任选地被1至3个独立地选自卤素、硝基、氰基、C₁‑C₃烷基、C₁‑C₃烷氧基、C₁‑C₃卤代烷基和C₁‑C₃卤代烷氧基的基团取代的苄基；R¹⁴和R¹⁵独立地选自氢、C₁‑C₂₀烷基、C₁‑C₂₀卤代烷基、C₁‑C₂₀烷氧基、C₁‑C₂₀烷氧基‑C₁‑C₂₀烷基、C₂‑C₂₀烯基、C₂‑C₂₀炔基以及苄基，或R¹⁴和R¹⁵连同它们附接的碳原子一起形成3‑6元饱和或部分不饱和环，该环任选地包括从1至3个独立地选自S、O和N的杂原子并且任选地被从1至3个独立地选自卤素和C₁‑C₆烷基的基团取代；或其N‑氧化物或盐形式。