[发明专利]抗蚀剂剥离液在审
申请号: | 201480057086.X | 申请日: | 2014-10-08 |
公开(公告)号: | CN105659167A | 公开(公告)日: | 2016-06-08 |
发明(设计)人: | 渊上真一郎;坂田俊彦;有富礼子;铃木靖纪;五十岚轨雄;児玉明里 | 申请(专利权)人: | 松下知识产权经营株式会社 |
主分类号: | G03F7/42 | 分类号: | G03F7/42;H01L21/027 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种剥离液,该剥离液能够用1种组成剥离铜膜上的抗蚀剂膜和在绝缘膜上暴露于等离子体中而变质的抗蚀剂膜这两者。一种抗蚀剂剥离液,其特征在于,含有链烷醇叔胺、极性溶剂、水、强碱剂以及还原剂,且pH为12以上,该抗蚀剂剥离液能够剥离暴露于等离子体中而变质的抗蚀剂膜,而且不腐蚀铜膜及基底层的钼层。强碱剂可以适当地利用TMAH,还原剂可以适当地利用鞣酸。 | ||
搜索关键词: | 抗蚀剂 剥离 | ||
【主权项】:
一种抗蚀剂剥离液,其特征在于,含有链烷醇叔胺、极性溶剂、水、强碱剂以及还原剂,且pH为12以上。
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