[发明专利]气体阻隔性膜在审
| 申请号： | 201480057575.5 | 申请日： | 2014-10-23 |
| 公开（公告）号： | CN105658424A | 公开（公告）日： | 2016-06-08 |
| 发明（设计）人： | 新真琴;铃木一生 | 申请（专利权）人： | 柯尼卡美能达株式会社 |
| 主分类号： | B32B9/00 | 分类号： | B32B9/00;C23C16/42;C23C16/50 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 贾成功 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的目的在于提供气体阻隔性能优异、构成气体阻隔性膜的层彼此的密合性提高、进而即使将气体阻隔性膜弯曲也抑制气体阻隔性能的下降的气体阻隔性膜。本发明涉及气体阻隔性膜，其依次包含：基材；通过等离子体化学气相生长法形成、含有硅、氧及碳的第1层；和将涂布含有聚硅氮烷的液体而形成的涂膜进行改性处理所得到的第2层，构成上述第1层的最表面的粒子的平均粒径为10～40nm。 | ||
| 搜索关键词： | 气体 阻隔 | ||
【主权项】：
一种气体阻隔性膜，其依次包含：基材；通过等离子体化学气相生长法而形成、含有硅、氧及碳的第1层；和对涂布含有聚硅氮烷的液体所形成的涂膜进行改性处理而得到的第2层，构成所述第1层的最表面的粒子的平均粒径为10～40nm。
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